電子情報材料研究所

電子情報材料研究所は1987年(昭和62年)に設立され、エレクトロコーティング関連材料、実装関連材料、 ディスプレイ関連材料、印刷関連材料、および、有機エレクトロニクスや環境・エネルギー、メディカルエレクトロニクスなどの新分野において、以下のような研究を行っています。

電子情報材料研究所は、東レの情報通信材料・機器事業の拡大と環境・エネルギー、メディカルエレクトロニクス分野でのソリューション提供に向けた材料・技術の中心的な研究拠点です。高耐熱性および光機能性高分子の設計合成技術、フォトリソグラフィーなどを用いた微細加工技術、ナノ微粒子分散による高機能化技術、真空やウェットコーティングを用いた薄膜形成技術など世界に誇る高い要素技術を基に、先端材料・技術の創出に挑戦しています。

エレクトロコーティング関連材料

当社独自の高耐熱性ポリマー材料をベースに、感光材料設計技術、ナノ微粒子分散技術を加えた高機能化により、革新的な材料を研究開発しています。感光性ポリイミドはフォトニース®の名称で半導体やディスプレイの保護膜・絶縁膜へ展開、ポリシロキサンを応用した屈折率制御材料はイメージセンサーに適用されるなど、各種デバイスの高性能化や信頼性向上に貢献しています。

有機ELディスプレイ用コーティング材料 有機EL用絶縁層・平坦化層への展開例

有機ELディスプレイ用コーティング材料 有機EL用絶縁層・平坦化層への展開例

※2017年度大河内記念生産賞受賞

半導体用材料 感光性ポリイミド フォトニース®の展開

半導体用材料 感光性ポリイミド フォトニース<sup>®</sup>の展開

※2017年度近畿地方発明表彰発明協会会長賞受賞

光デバイス用材料 CMOSイメージセンサーの構造

光デバイス用材料 CMOSイメージセンサーの構造

※2013年度 近畿地方発明表彰文部科学大臣発明奨励賞受賞

実装関連材料

当社では、感光性や高熱伝導性などユニークな機能を有するシート材料をファルダ®として展開しており、微細化や3次元化の要求への対応やパワーデバイスの小型軽量化に寄与する次世代実装材料の研究を行っています。また、タッチパネルや小型電子部品の電極配線向けに感光性機能材料 レイブリッド®の技術深化を進めています。

ディスプレイ関連材料

大型テレビやモバイル機器向けのディスプレイ関連材料・技術の研究に取り組み、携帯電話用中小型LCDカラーフィルターや、有機EL用発光材料、絶縁材料など世界トップレベルの技術を創出してきました。タッチパネル向けの保護膜・絶縁材料、フレキシブルディスプレイ関連材料に加えて、有機波長変換材料など次世代ディスプレイに対応した新技術の研究を進めています。

バックライト材料

左:バックライト材料 右:有機波長変換材料

印刷関連材料

当社独自の 東レ水なし平版® 技術を発展させ、コンピュータから直接書き込み可能な水なしCTP版の開発を進めています。環境対応と市場拡大が期待されるフィルムパッケージ市場向けに、独自のポリマー設計技術に基づく水溶性インキの開発と併せて、VOCフリーを実現する環境対応印刷システムの開発を進めています。

東レ 水なし平版®
東レ 水なし平版®
※2010年度 全国発明表彰日本商工会議所会頭発明賞受賞
軟包装水なし印刷物
軟包装水なし印刷物

新分野

新しい技術として、X線撮像装置の部材、塗布型RFID、バイオ/ケミカルセンサー、次世代通信用材料、2次電池の研究開発にも取り組み、IoT・メディカルエレクトロニクスへの展開を進めることで、今後も社会に貢献できる材料開発に積極的に挑戦しています。

X線撮像装置の部材、塗布型RFID、バイオ/ケミカルセンサー、次世代通信用材料、2次電池の研究開発

研究・開発の歩み(抜粋)

1977 感光性樹脂凸版材 トレリーフ®の本格生産開始
1985 ポリイミドコーティング剤の本格生産開始
1987 電子情報材料研究所設立
1993 液晶ディスプレイ用カラーフィルター トプティカル®の生産開始
1999 水なしCTP版の生産開始
2000 ポジ型感光性耐熱ポリイミドコーティング剤 フォトニース®の開発
PDP用ペーストの生産開始
2006 有機ELディスプレイ用赤色発光材料・電子輸送材料の生産開始
2013 タッチパネル用感光性機能材料 レイブリッド®の生産開始
2016 イメージセンサー用超低屈折率コーティング剤を開発