研究開発組織

電子情報材料研究所

電子情報材料研究所は1987年(昭和62年)に設立され、半導体関連材料、実装関連材料、ディスプレイ関連材料、印刷関連材料、および、有機エレクトロニクスや環境・エネルギー、メディカルエレクトロニクスなどの新分野において、以下のような研究を行っています。

電子情報材料研究所は、東レの情報通信材料・機器事業の拡大と環境・エネルギー、メディカルエレクトロニクス分野でのソリューション提供に向けた材料・技術の中心的な研究拠点です。高耐熱性および感光性高分子の設計合成技術、フォトリソグラフィーなどを用いた微細加工技術、ナノ粒子分散による高機能化技術、真空やウェットコーティングを用いた薄膜形成技術など世界に誇る高い要素技術を基に、先端材料・技術の創出に挑戦しています。

半導体関連材料

ポリイミドやポリシロキサンをはじめとする高耐熱性材料、感光材料設計技術、ナノ微粒子分散による高機能化技術を基に、半導体分野における保護膜や絶縁膜、市場成長が進むイメージセンサー用材料の開発で、半導体の信頼性向上、イメージセンサーの高性能化に貢献しています。

300mm 用高信頼性ポジ型感光性ポリイミド※ ※2009年度日本化学会化学技術賞受賞

300mmウェハ用 用高信頼性ポジ型感光性ポリイミド※ ※2009年度日本化学会化学技術賞受賞

光学デバイス用材料 CMOS イメージセンサの構造

光学デバイス用材料 CMOSイメージセンサ用材料/導波路、平坦化層、反射防止層

実装関連材料

3次元実装材料3次元実装材料

今後も微細化、3次元化の進行が予想される半導体実装に向けて、狭ギャップ実装、実装面積の極小化と工程の簡略化を実現する半導体用接着フィルムなどの次世代実装材料の研究を進めています。また、タッチパネルや小型電子部品の電極配線向けに感光性機能材料 レイブリッド®の技術深化を進めています。

ディスプレイ関連材料

有機ELディスプレイ用フレキシブルカラーフィルター有機ELディスプレイ用フレキシブルカラーフィルター

大型テレビやモバイル機器向けのディスプレイ関連材料・技術の研究に取り組み、携帯電話用中小型LCDカラーフィルターや、有機EL用発光材料、絶縁材料など世界No.1の技術を創出してきました。さらに、本格普及が進むタッチパネル向けの保護膜・絶縁材料にも取り組んでいます。次世代技術であるフレキシブルディスプレイ関連材料・技術の研究も行い、急速に進む次世代技術に向けて、これまでにない革新的な材料を提供していきます。

有機EL ディスプレイ用コーティング材料 / 有機EL 用絶縁層・平坦化層への展開例

有機EL ディスプレイ用コーティング材料 / 有機EL 用絶縁層・平坦化層への展開例

印刷関連材料

水なしCTP版水なしCTP版

当社独自の 東レ水なし平版® 技術を発展させ、コンピューターから直接書き込み可能な水なしCTP版を開発しました。環境意識の高まりを受け、最近、特に注目されています。さらに、高品質で効率的なUV対応版の開発も進めています。

新分野

新しい技術として、太陽電池、パワー半導体、2次電池、LED関連材料および、X線撮像装置の部材、バイオセンサーの研究開発にも注力し、環境・エネルギー、メディカルエレクトロニクスへの展開を進めることで、今後も社会に貢献できる材料開発に積極的に挑戦しています。

バイオセンサー用半導体CNT

バイオセンサー用半導体CNT

  • トランジスタ用レジストパターントランジスタ用レジストパターン
    解像度:線幅1.5μm
  • 試作トランジスタデバイス試作トランジスタデバイス
    1200V IEMOSFET

パワー半導体用感光性耐熱レジスト

研究開発の歩み(抜粋)

1977 感光性樹脂凸版材 トレリーフ®の本格生産開始
1985 ポリイミドコーティング剤の本格生産開始
1987 電子情報材料研究所設立
1993 液晶ディスプレイ用カラーフィルター トプティカル®の生産開始
1999 水なしCTP版の生産開始
2000 ポジ型感光性耐熱ポリイミドコーティング剤 フォトニース®の開発
PDP用ペーストの生産開始
2006 有機ELディスプレイ用赤色発光材料・電子輸送材料の生産開始
2012 タッチパネル用感光性機能材料 レイブリッド®の本格量産開始