研究開発組織

フィルム研究所

フィルム研究所は1963年(昭和38年)に、当社のフィルム事業の基礎研究分野を担い、 基礎技術を強化するために設立され、ベースフィルムおよびフィルム加工製品の研究を行っています。

微多孔アラミドフィルム微細気泡を高密度に形成
微細な空隙を形成させた液晶ディスプレイ用低比重・高白色フィルム
※2007年度 大河内記念生産賞受賞

当社は二軸延伸ポリエステルフィルム ルミラー® を日本で初めて事業化し、二軸延伸ポリプロピレンフィルム トレファン® とともに世界の高性能・高機能フィルムをリードしてきました。さらに、二軸延伸ポリフェニレンサルファイドフィルム トレリナ®、アラミドフィルム ミクトロン® などの画期的な特性をもつ新素材フィルムを世界に先駆けて開発し製品化しています。

フィルムの研究では、これまで数多くの研究実績を残しており、①製膜プロセスの観点からは、世界一薄いフィルムを生産する技術を確立し、コンデンサ用途に展開して、各種電子機器の小型化に貢献してきました。また、②ポリマーアロイ技術と延伸技術の融合によりフィルム中に微細な気泡を形成させた液晶ディスプレイ用低比重・高白色フィルム、③高分子微細構造制御による成形用ポリエステルフィルム、④ナノオーダーのポリマーアロイ技術を駆使した高耐熱ポリエステルに独自のフィルム複合法で表面微細突起を制御した高密度磁気テープ用ベースフィルム、⑤独自の技術による均一微細貫通孔形成、⑥特殊な表面処理技術により透明性・密着性に優れたハードコートやプリズムなどディスプレイ用基材フィルムの開発を行い、用途拡大を図っています。

  • 微細気泡を高密度に形成高耐熱を実現したナノアロイ® フィルム
    ナノオーダーのポリマーアロイ技術を駆使した高耐熱ポリエステルに独自のフィルム複合法で表面微細突起を制御した高密度磁気テープ用ベースフィルム
    ※2009年 高分子学会賞受賞
  • 高耐熱を実現したナノアロイ® フィルム微多孔アラミドフィルム
    独自の高耐熱ポリマー分子設計技術とナノ相分離構造制御技術の追求により、200°Cの高温下でも形状変化がない耐熱性と難燃性を達成、空孔率が高く、均一な孔構造を持つ

当社のナノテクノロジー技術をさらに深化、発展させた結果として、最近では、複数のポリマーをナノオーダーで積層することにより金属光沢調を表現するナノ積層フィルム ピカサス®、独自のポリマー設計技術とフィルム構造制御技術により飛躍的な耐久性を実現した超高耐久PETフィルム、コート層表面のポリマー粘弾性制御と自己組織化技術により、耐指紋性と傷を瞬時に修復する性質を併せ持つ自己修復コートフィルム、独自の高分子技術とナノテクの融合により、世界最高レベルの耐熱性を実現した微多孔アラミドフィルムを開発し、情報通信、環境、資源・エネルギー、ライフイノベーション分野等への用途拡大を図っており、これら最先端の研究成果は、各方面から高く評価されております。

  • 金属光沢調フィルム金属光沢調フィルム
    ピカサス®は、種類の異なるポリマーを数百から一千層、数ナノメートルの薄さで多層積層した金属光沢調フィルム
  • 屈折率の異なるポリマーをナノレベルで多層積層屈折率の異なるポリマーをナノレベルで多層積層
  • 耐指紋・自己修復コートフィルム耐指紋・自己修復コートフィルム
  • 耐指紋・自己修復コートフィルム ムービー

現在、フィルム研究所では、ポリマー分子設計、製膜プロセス、フィルム品質設計、フィルム加工技術において革新的なコンセプトを打ち立て、基盤技術の強化と事業拡大に貢献すべく、研究活動を展開しており、今後とも、世の中の発展に役立つ先端材料の開発に果敢に挑戦していきます。

研究開発の歩み(抜粋)

1959 ポリエステルフィルム ルミラー®の生産開始
1963 フィルム研究所設立
ポリプロピレンフィルムトレファン®の本格生産開始
1988 ポリフェニレンサルファイドフィルム トレリナ®の本格生産開始
1992 ルミラー®新表面形成技術(TOP・PTL)の実用化
1995 アラミドフィルム ミクトロン®の本格生産開始
2001 成形用高伸度 ルミラー®の生産開始
2006 高密度磁気テープ用 高耐熱ナノアロイ®フィルムの生産開始
超高輝度反射ポリエステルフィルムの生産開始
2008 金属光沢調ナノ積層フィルムの生産開始
2012 タッチパネル用・次世代フィルムの生産化と拡大